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脉冲激光-磁控溅射多功能复合系统
2017-06-18 16:56   审核人:


制造商

大连齐维制造

产地

中国

 

 

 

 

 

 

 

 

 

主要技术

指标

1.超高真空室:直径不小于300mm,极限真空10-8Pa

2.泵系统:干泵ISP-500CIWATA/日本);分子泵型号FF200/1300(中科科仪/中国),抽数1300L/min,极限抽真空10-5Pa;离子泵VacionPlus300Agilent/美国),抽数300L/min,抽极限真空10-8Pa

3.差分抽RHEED及荧光屏RAD-003GDR-DEC/日本),加速电压0-30KV

4.等离子体源HD25(牛津仪器/英国),功率大于400W,离子束半径大于25mm,束流不低于1*1016atoms/cm2/sec at 100mm

5.磁控溅射靶TM2AM10(科特莱思科/美国);

6.准分子激光器COMPexPro201FCoherent/美国),波长248nm,脉冲能量》700mJ 平均功率》5W,最大重复频率不低于10Hz,脉冲宽度25ns,脉冲间稳定性1%

7.SiC加热台,基片加热温度800℃以上,误差小于1度。

 

主要应用及功能

可以分别采用脉冲激光沉积和磁控溅射沉积生长高质量薄膜,2英寸直径范围内,成膜不均匀性小于10%,沉积速率不低于200nm/h

送样要求

只适合做固体块状物质镀膜,靶材大小严格控制为2英寸。

 


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