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高真空蒸发镀膜系统
2021-11-11 12:09  


仪器品牌:微纳真空

仪器型号:VZZ-300

主要技术指标:

1. 真空腔室尺寸:高硼硅玻璃钟罩Φ300×H315mm,不锈钢底座Φ300×H100mm

2. 基片台:最大可镀基片尺寸/面积110×110mm,该范围内可装卡各种规格基片

3. 抽速:分子泵(型号FF-160/620)抽速600L/s;机械泵(型号TRP-24)抽速6L/s;抽至4.0×10-4Pa≤10min(分子泵完全启动开始计时)

4. 腔室真空极限:优于3.0×10-5Pa

5. 蒸发源:腔室底部2组蒸发源,相互独立,有防污隔离屏蔽罩,能够有效防止交叉污染,可实现一次真空环境两源依次蒸发

6. 蒸发电源额定功率:2.3KW,最大电流230A

7. 速率和膜厚监控:厚度监测范围99µ9999Å,分辨率;速率监测范围0.1Å9999.9Å.S-1,分辨率0.1Å

基本功能:

高真空蒸发镀膜系统(VZZ-300)是广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样的一套小型镀膜设备。主要用于金、银、铜、铝、镍、钛、铬等常用金属和合金层的蒸镀。

送样要求:

1. 为确保蒸镀薄膜的均匀性,总体要求样品表面清洁无油污。

2. 要求样品无毒性、无放射性、真空下稳定、不会挥发大量气体。

3. 请根据需求,自行查阅相关资料,提供详细的实验条件

4. 具体样品的准备请提前与仪器负责人联系确认。

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