仪器品牌：微纳真空

仪器型号：VZZ-300

主要技术指标：

1. 真空腔室尺寸：高硼硅玻璃钟罩（Φ300×H315mm），不锈钢底座（Φ300×H100mm）

2. 基片台：最大可镀基片尺寸/面积为110×110mm，该范围内可装卡各种规格基片

3. 抽速：分子泵（型号FF-160/620）抽速为600L/s；机械泵（型号TRP-24）抽速为6L/s；抽至4.0×10^-4Pa≤10min（分子泵完全启动开始计时）

4. 腔室真空极限：优于3.0×10^-5Pa

5. 蒸发源：腔室底部有2组蒸发源，相互独立，有防污隔离屏蔽罩，能够有效防止交叉污染，可实现一次真空环境两源依次蒸发

6. 蒸发电源额定功率：2.3KW，最大电流230A

7. 速率和膜厚监控：厚度监测范围为1Å～99µ9999Å，分辨率1Å；速率监测范围为0.1Å～9999.9Å.S^-1，分辨率0.1Å

基本功能：

高真空蒸发镀膜系统（VZZ-300）是广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样的一套小型镀膜设备。主要用于金、银、铜、铝、镍、钛、铬等常用金属和合金层的蒸镀。

送样要求：

1. 为确保蒸镀薄膜的均匀性，总体要求样品表面清洁无油污。

2. 要求样品无毒性、无放射性、真空下稳定、不会挥发大量气体。

3. 请根据需求，自行查阅相关资料，提供详细的实验条件。

4. 具体样品的准备请提前与仪器负责人联系确认。